Tief in den Details
Unsere Analytik stellt einen wesentlichen Baustein bei der Entwicklung neuer Produkte dar. Sie unterstützt das Monitoring von Beschichtungsparametern und hilft somit, feinchemische Gleichgewichte einzustellen, aufrechtzuerhalten und zu überwachen. Dies gilt auch für die Überwachung chemischer Parameter in unserer WHW Produktion. Die Analytik ist personell und maschinell darauf ausgelegt, Messmethoden weiterzuentwickeln und zu optimieren. Im CIT arbeiten wir an neuen Analytikkonzepten für den gesamten Produktionsablauf.
Weitere Tätigkeitsfelder sind die Evaluierung und Implementierung neuer Analysetechniken sowie die Entwicklung und Validierung neuer Analysemethoden. Einführung und Betreuung der Online-Prozessanalytik sind ein weiteres, stark wachsendes Tätigkeitsfeld.
Bei den eingesetzten Analysetechniken haben die Potentiometrische Titration, die Atom-Absorption-Spektroskopie (AAS), die UV-VIS-Spektroskopie und die Chromatografie (HPLC, IC) den größten Stellenwert. Außerdem werden physikalische Kenngrößen bestimmt und Praxistests durchgeführt. Die Zyklische Voltametrie (CVS) wird zur Analyse von Zusätzen in der Leiterplattenchemie eingesetzt.
Analyseparameter
- Titration: Bestimmung von Säuren und Basen (Salzsäure, Schwefelsäure, Natronlauge)
- ICP, AAS: Bestimmung von Kationen (Zink, Nickel, Chrom, Eisen, Kobalt)
- HPLC: Bestimmung von organischen Additiven (Glanzzusatz, Netzmittel, Komplexbildner, Inhibitoren)
- IC: Bestimmung von Anionen (Chlorid, Fluorid, Nitrat, Phosphat, Sulfat)
- Physikalische Kenngrößen: pH-Wert, Leitfähigkeit, Dichte, Brechungsindex, Festkörper, Viskosität
- Praxistests: Wärmeauslagerung, Thermoschock, Auslaugtest auf Cr-VI-Freiheit
